出典:http://itpro.nikkeibp.co.jp/article/NEWS/20081014/316759/
米ハーバード大学の技術開発局(OTD)と米SiOnyxは米国時間2008年10月13
日,ハーバード大学が「ブラック・シリコン(Si)」と呼ばれる特殊なSi材料
の特許ライセンスをSiOnyxに供与すると発表した。SiOnyxはハーバード大学か
らブラックSi関連特許の独占使用権を得て,商用化を目指す。
ハーバード大学が発見したブラックSiは,光に対する感度が通常のSiよりも
非常に高く,太陽電池や光センサーなどへの応用が可能という。Si表面に強力
なレーザー光線を照射してSiをブラックSi化すると,可視光の吸収率が2倍弱
に高まり,通常のSiだと反応しない赤外線も検出できるようになる。ブラック
Siの製造プロセスは現在の半導体製造プロセスに組み込むことが可能で,新し
い素材を使う必要もない。
米メディア(New York Times)によると,地球全体に降り注ぐ太陽光と同等
のエネルギーを持つレーザー・パルスを6フッ化硫黄(SF6)ガス中でSiウエー
ハに照射すると,表面に微細な針状の密集構造が形成され,肉眼では黒く見え
るという。
SiOnyxは,ハーバード大学の研究成果を商用化する目的で設立した企業。ベ
ンチャー・キャピタルなどから1100万ドルの資金を集めている。
[発表資料へ]
Harvard University and SiOnyx Partner to Commercialize Black Silicon
http://www.businesswire.com/portal/site/home/permalink/?ndmViewId=news_view&newsId=20081013005717&newsLang=en
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