2008年7月15日火曜日

新技術で太陽電池市場に参入=米シリコン・ジェネシス


http://www.businesswire.com/portal/site/google/?ndmViewId=news_view&newsId=20080711005130&newsLang=ja
半導体基盤製造技術大手の米シリコン・ジェネシス(サイジェン)は、PV
(太陽光発電)業界向けに開発した「カーフ・フリー」のウエハー製造技術
「ポリマックス」によるソーラー基盤製造に成功したと発表した。ポリマック
スは、インゴットからウエハーを作る工程で切削(カーフ)ロスを減らすほか、
ウエハー作製工程で使用されている高価な消耗品も不要。ポリマックスを使用
した設備により今回、厚さ50ミクロンで125mmのフルサイズ・ウエハー
を作製したが、同社は来春までに150マイクロメートルから50マイクロメ
ートルの厚さのウエハーを作製するパイロット・プラントを稼働させる計画。
ポリマックスと製造工程の詳細は、9月1-5日にスペイン・バレンシアで開
催される「第23回欧州太陽電池会議」で公開される。

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